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SAMCO二手刻蝕機PD-3800現貨供應，2011年設備，PECVD系統，可對2-6英寸晶圓進行加工處理，已打包封裝完成，隨時發貨...
Canon Anelva二手物理氣相沉積PVD設備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓。...
TEL氣相化學沉積設備,CVD設備triase所有這些型號都具有靈活的設計，最多可以集成四個腔室，并且單個腔室已經優化了清潔技術，以實現高生產率和低 CoC。...
novellus化學氣相沉積mocvd設備 vector express，購買于2004年，針對12英寸晶圓設計使用。...
ASM二手化學氣相沉積CVD設備Eagla10采用DARC流程工藝，針對于8英寸晶圓的處理，現貨供應...
ASM二手化學氣相沉積PECVD設備Dragon 2300生產于2003年，針對12寸（300nm）晶圓處理。...
AMAT等離子化學氣相沉積PECVD設備producer se，生產于2003年，采用PETEOS工藝，針對12英寸（300mm）晶圓處理。...
AMAT二手金屬化學氣相沉積設備Centura AP ISPRINT，針對于300nm晶圓，主機類型為Centura AP，工藝采用WCVD，擁有4個腔室，3個裝載端口。...
PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統。...
AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應沉積薄膜，實現了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數量級。此外，可以在高寬比的孔...
AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供給反應室，僅通過表面反應進行薄膜沉積。該系統具有負載鎖定室，且不向大氣開放...
1.等離子增強型化學氣相沉積設備 2.用于SiO2,SiN的高精度薄膜沉積 3.膜層應力穩定,可調范圍廣泛 4.可換托盤式,基板尺寸切換簡便...
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