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ULVAC愛發(fā)科多腔濺射設(shè)備Entron EX W300是在Al、Cu、高熔點(diǎn)金屬布線工序中有很多實(shí)績(jī)的單片式多室對(duì)應(yīng)平臺(tái)。適應(yīng)下一代流程的SIS（Self-Ion Sputter）-PVD、金屬CVD/ALD、DRY預(yù)處理模塊的組合且可...
ULVAC愛發(fā)科二手葉片式濺射設(shè)備CERAUS ZX-1000與2011年投入使用，針對(duì)于8英寸晶圓使用。...
Novellus二手濺射設(shè)備Inova于1999年投入使用，適用于8英寸晶圓。...
愛發(fā)科ULVAC蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 蒸發(fā)臺(tái)EBX-1000生產(chǎn)于2002年。 ...
Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對(duì)應(yīng)從研究開發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備。...
ULVAC CS-200系列磁控濺射鍍膜設(shè)備是一款追求低成本和用戶友好操作的磁控濺射設(shè)備，通過增加配有機(jī)械手d裝載固定腔室（Load lock chamber）使在上下基板時(shí)工藝腔室仍保持真空。...
centrotherm 臥式熱反應(yīng)系統(tǒng)HORICOO 200 是大量現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證及具有多功能的臥式爐系統(tǒng)，基于客戶需求可靈活選擇大、中批量生產(chǎn)以及研發(fā)類型機(jī)臺(tái)。為AP、LP和PECVD等多種工藝應(yīng)用提供了可靠的...
應(yīng)用范圍：LED、Laser Diode、MEMS、Power MoS、Power Chip等等 蒸鍍?cè)O(shè)備型式： 1. 金屬電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 2. 金屬熱阻式蒸鍍?cè)O(shè)備 3. 電子束/熱阻混合式蒸鍍?cè)O(shè)備 4. ITO電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 5. 雙電子束...
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